法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
コアテクノロジー株式会社は、真空装置の開発、設計、製造を専門とするベンチャー企業です。特に薄膜形成技術を核とした装置開発に強みを持ち、シリコン半導体、化合物半導体、結晶薄膜系太陽電池、有機EL等のフラットパネル・ディスプレイ（FPD）分野における最先端の研究開発ニーズに応える装置、および量産装置を提供しています。同社は、プラズマCVD（ECR、ICP、SWP、CCP）、LPCVD、イオンビームスパッタリング、真空蒸着といった薄膜形成装置に加え、RIEやICPを用いたエッチング装置、アッシング装置などの薄膜プロセス装置、さらにRTA装置や縦型高圧酸化装置といった熱処理装置など、多岐にわたる真空装置を手掛けています。 これらの装置は、Si半導体向けの縦型バッチ方式高圧酸化装置やMOCVD装置、化合物半導体向けの3・4元素MOCVD量産装置、太陽電池向けのSi結晶系SiNx反射防止膜形成プラズマCVD装置や薄膜系発電層成膜プラズマCVD装置、有機EL向けの発光層形成蒸着装置、MEMS向けのRIEエッチング装置など、幅広い用途に対応しています。コアテクノロジーは、顧客の具体的な要望に応じて、研究開発段階の試作機から大規模な量産機まで、柔軟な対応力と技術力で最適な装置を提供し、半導体、太陽電池、FPD産業の発展に貢献しています。
2026年5月19日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
23人 · 2026年7月
31期分（2023/12〜2026/07）
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日本電子材料株式会社上場
コアテクノロジー株式会社は特許8件を保有しています。特許は半導体などの分野が中心です。
特許
8件
登録 5
多段式加熱装置登録2016・請求項2項
タクトタイムの大幅な短縮化が図り得ると共に、熱効率及び熱経済を大きく向上することができる多段式加熱装置
プレート型ヒーター登録2015・請求項4項
供給エネルギーをロスなく有効に熱エルネギーに変換してタクトタイムの短縮化が図り得ると共に、被加熱物全体を熱歪みのないよう均一に加熱昇温することができ、しかも、被加熱物の品質を良好に維持することができるプレート型ヒーター
