法人向け（製造業）
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株式会社ファインサーフェス技術は、半導体分野で使用されるフォトマスク、光学部品、ウェハー材料などのガラス基板に対し、超精密な表面状態を実現する研磨加工を専門としています。同社は、機械的および化学的な手法を組み合わせた研磨技術を駆使し、各種材料や要求品質に応じた研磨装置、研磨剤、研磨布を選定して加工を行います。主要な事業として、フォトマスク材料精密研磨、光学部品精密研磨（合成石英、白板、無アルカリガラス、低膨張ガラスなど）、ウェハー材料精密研磨（Siウェハー、ガラスウェハー）を手掛けており、高い平坦度、平行度、面粗度、そして傷のない表面仕上げを強みとしています。 研磨工程においては、研削、ラップ、ポリッシュといった各工程を経て、最先端フォトマスク材に求められる超精密な品質を実現します。また、研磨後の基板には、超純水やEL級薬液を用いた超精密洗浄を施し、ナノメートルレベルの異物除去を徹底しています。製品検査では、暗室での目視検査に加え、高精度欠陥検査装置（TROPEL ULTRA FLAT、SEM、AFMなど）を用いて、ナノレベルの欠陥や異物がないことを確認し、厳格な品質保証体制を確立しています。これらの技術により、平坦度0.3μm以下、表面粗さRa0.082nm、0.1μm以上の欠陥ゼロといった極めて高い品質基準を達成しています。 さらに、同社はガラスの総合プロデュースとして、各種硝材の調達から切断、芯取り、面取り、穴あけ、外形加工、アニール処理、化学強化、火加工、貼り合わせまで、幅広い受託加工サービスを提供しています。合成石英、セラミック系ガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、ソーダライムガラスなど多様な硝材に対応し、試作品の少量生産から量産まで柔軟に対応できる体制を構築しています。長年培った加工ノウハウと独自のネットワークを活かし、顧客の多様なニーズに応じた最適なプロセスを提案し、高精度なガラス加工ソリューションを一括で提供することで、半導体や光学分野の発展に貢献しています。
2026年5月9日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
82人 · 2026年8月
32期分（2023/12〜2026/08）
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日本電子材料株式会社上場
株式会社ファインサーフェス技術は特許4件を保有しています。特許は光学などの分野が中心です。
特許
4件
審査中・消滅含む 7件
登録・現存
4件
審査中
0件
満了
0件
消滅
0件
拒絶・取下げ
3件
マスク基板およびその製造方法登録2023・請求項5項
基板位置を精度よく検出することが可能であり、かつ、パーティクルの発生を抑制できる、マスク基板
研磨方法および研磨装置登録2022・請求項8項
収率よくマスクブランク用の矩形ガラス基板を研磨する。
データ基準日: 2026年8月6日確認分
産業分野: 機械工学（現存3）・化学（現存2）・計測機器（現存2）・電気工学（現存1）
貼り合わせ基板、製造方法登録2021・請求項10項
メサ部と凹部との中心を精度よく一致させる。
ウェハ支持体およびその製造方法登録2016・請求項5項
ウェハ支持体に接着した薄厚化後のウェハを、破損させることなく容易にウェハ支持体から剥離することが可能なウェハ支持体およびその製造方法
