法人向け（製造業）
株式会社エヌエスは、真空装置と半導体測定器を事業内容とし、主要製品としてイオンミリング装置とプローブカードを設計・製造する企業である。同社はイオンガンを使用したミリング装置を扱い、真空中でイオンビームを試料表面に衝突させ、表面を少しずつエッチングする微細加工装置を製品化している。イオンソース、電源、周辺機器まで自社で設計・製作し、量産用装置から研究開発向け装置までを対象に、20cmカウフマン型イオンガン、10cmカウフマン型イオンガン、ダイレクトクールステージ、ミリングプロセスの自動制御機能を組み合わせた装置構成に特徴がある。 製品は薄膜磁気ヘッド、半導体素子、MRセンサーなどの研究、開発、量産用途で利用され、材質を問わないドライプロセス加工、入射角度調整による垂直・テーパー断面の形成、基板の直接冷却、自公転ステージによる均一なミリング面の形成を強みとする。1分間に約3ナノメータから300ナノメータのエッチングに対応し、バッチサイズは4インチ12枚、18インチ3枚、3インチ8枚、4インチ6枚、6インチ1枚などの仕様を持つ装置を揃える。顧客の用途に合わせたカスタマイズにも対応する受注製造型のビジネスモデルを主軸に置く。 プローブカード事業では、電気特性測定用のカードを製作し、高温対応、高周波、微小電流、高密度用途に対応する。12インチウェハーの一括コンタクト、TDDB・EM試験、-65℃から+350℃の温度範囲、10pA以下や数fAレベルのリーク測定、RF10GHz未満、SAWデバイス向け仕様、セラミックブレード使用など、半導体・電子デバイスの評価現場に必要な仕様を扱う。BS EN ISO9001:2000の認証範囲はイオンミリング装置関連装置を含む設計・製造およびプローブカードの設計・製造であり、品質管理体制を製造業務の基盤としている。
2026年6月18日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
9人 · 2026年6月
31期分（2023/12〜2026/06）
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日本電子材料株式会社上場
株式会社エヌエスは特許7件・実用新案3件を保有しています。特許は半導体などの分野が中心です。
特許
7件
登録 1
実用新案
3件
登録 3
基板の保持・剥離方法及びその装置登録2016・請求項6項
弾性シートを介して基板をプラネットの保持面に真空チャック方式で吸着保持する基板の保持方法において、基板を処理した後、プラネットから基板と弾性シートを簡単に剥離できるようにする。
