グレーのタブは会社を解放すると表示できます
グレーのタブは会社を解放すると表示できます
法人向け（製造業・エネルギー・環境）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社アビット・テクノロジーズは、独自の高密度プラズマ発生技術と、多くの産業分野で培われた知見を融合させ、半導体、環境・エネルギーといった幅広い分野に革新的なイノベーションをもたらすことを使命として活動しています。同社の主要事業は、大口径対応の高密度プラズマ技術の開発、および半導体デバイス向けの低温形成膜（ゲート絶縁膜、層間絶縁膜、電荷保持膜）のプロセス開発と装置開発です。特に、パワー半導体向けゲート絶縁膜形成用高密度ラジカル源の大面積化技術や、SiCパワー半導体向け層間絶縁膜における低温緻密化プロセスの開発において実績を重ねています。また、CO2、水、難分解性物質の分解を可能にするプラズマ分解技術も提供しており、環境問題解決にも貢献しています。 同社の技術的な強みは、プラズマ源のマイクロ波が互いに干渉しない特性を活かし、単一装置に多数のプラズマ源を設置することで、小型装置でありながら大口径処理や大量処理に容易に対応できる点にあります。これにより、酸化膜形成、熱酸化膜からの脱水素、レジストアッシングといった精密なプラズマ処理を効率的に実現しています。ビジネスモデルとしては、プラズマ処理の受託、共同開発や受託開発、さらには装置の開発・販売・レンタル、技術コンサルティング、ライセンス供与など多角的に展開しています。顧客層は半導体メーカーや研究機関、環境・エネルギー関連企業が中心であり、大学との共同研究を通じて、プラズマCVDを用いたMOS構造の形成技術や水素ラジカルによるシリコン窒化膜中水素量制御、高品質Al2O3ゲート/Ge基板構造の形成など、最先端の研究開発にも積極的に取り組むことで、技術革新を推進しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
1人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
このデータをAIで活用
Claude / ChatGPT / Cursor などの MCP 対応クライアントから、株式会社アビット・テクノロジーズの決算・登記履歴・役員・関係企業・知財・公共調達などの構造化データを直接取得できます。無料 20 クレジット/月で利用可能、9 種類のツールを提供。
接続方法を見るグラフェナリー株式会社
グラフェナリー株式会社は、慶應義塾大学牧研究室の研究成果を基盤とし、高性能なグラフェン材料を用いた革新的な光デバイスの開発と社会実装を目指すスタートアップ企業で…
ディ・アイジャパン株式会社
ディ・アイジャパン株式会社は、世界市場における新たな価値創出を目指し、半導体装備部門の技術力向上に貢献する企業です。同社は2003年2月13日にディーアイコーポ…
株式会社ＬＥ‐ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ
株式会社ＬＥ‐ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹは、最先端パッケージ市場における技術変革をリードするため、株式会社ブイ・テクノロジーと株式会社EORICのジョイントベンチャー…
アイチップス・テクノロジー株式会社
アイチップス・テクノロジー株式会社は、映像・画像処理に特化した汎用LSIの開発、設計、製造、販売を主軸とする半導体メーカーである。同社は、解像度変換（スケーラー…
株式会社ＰＥＺＹ Ｃｏｍｐｕｔｉｎｇ
株式会社PEZY Computingは、独自に開発したメニーコアプロセッサ技術を基盤に、世界最先端のスーパーコンピュータ・プロセッサおよび関連システムの開発・販…
日本エム・ケー・エス株式会社
日本エム・ケー・エス株式会社は、米国MKS Inc.の日本法人として、最先端の半導体製造、エレクトロニクスおよびパッケージング、特殊産業用途向けの基盤技術ソリュ…
日本エイ・エム・ディ株式会社
日本エイ・エム・ディ株式会社は、ハイパフォーマンスとアダプティブコンピューティング技術を主軸とする半導体メーカーです。同社は、データセンター、組み込み機器、ゲー…
シナプティクス・ジャパン合同会社
シナプティクス・ジャパン合同会社は、Synaptics Incorporatedの日本法人として、エッジAI、無線接続、マルチモーダルセンシング技術を核とした半…
ＳＰＰテクノロジーズ株式会社
ＳＰＰテクノロジーズ株式会社は、グローバルな先進製造業向けに高性能なプラズマ装置と熱処理装置を提供する企業です。同社は、MEMSデバイスおよび半導体デバイス製造…
株式会社ＢＲＥＸＡ Ｐｈｏｔｏｎｉｘ
株式会社BREXA Photonixは、株式会社BREXA Nextとデクセリアルズ株式会社との製造合弁会社として、デクセリアルズ フォトニクス ソリューション…
ＤＯＷＡエレクトロニクス株式会社
ＤＯＷＡエレクトロニクス株式会社は、1884年に鉱山製錬会社として創業した同和鉱業から2006年に分社独立し、電子材料事業に特化した企業として設立されました。同…
ユナイテッド・プレシジョン・テクノロジーズ株式会社
ユナイテッド・プレシジョン・テクノロジーズ株式会社は、AIや自動運転、電気自動車（EV）、先進医療といった本格的なIoT社会の実現を支える超小型電子部品に不可欠…
東亜テクニカル株式会社
東亜テクニカル株式会社（東京都千代田区外神田）は電子部品製造・加工サービス・エレクトロニクス領域の製造業者である。エレクトロニクスメーカー、自動車部品メーカー、…
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
ヒューグルエレクトロニクス株式会社は、1969年の創業以来、半導体産業の黎明期からクリーン化技術のパイオニアとして、半世紀以上にわたり高度な技術と製品を提供し続…
株式会社アビット・テクノロジーズは特許6件を保有しています。特許は半導体などの分野が中心です。
特許
6件
登録 4
マイクロ波プラズマ発生装置、マイクロ波プラズマ処理装置、及びマイクロ波プラズマ処理方法登録2026・請求項17項
誘電体からなる筒状の容器の外周に設けた伝搬領域にマイクロ波を導入し、筒状の容器内部にプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ発生装置において、筒状の容器内部の放電空間内へ伝達されるマイクロ波の量を増加させ、マイクロ波のエネルギー利用効率を向上させたマイクロ波プラズマ発生装置、及びそのマイクロ波プラズマ発生装置を用いたマイクロ波プラズマ処理装置
還元反応装置、及び被処理化合物の還元体の製造方法登録2023・請求項16項
確実かつ簡便な方法により反応系にエネルギーを供給することができ、吸熱反応であっても反応を十分に進行させることが可能な還元反応装置と、この装置を利用する被処理化合物の還元体の製造方法
基板処理装置及び基板処理方法登録2022・請求項19項
簡便な方法で、均一に、酸化ケイ素や窒化ケイ素の絶縁膜の表面改質処理を行うことのできる基板処理装置及びその装置を用いた基板処理方法
絶縁膜の製造方法登録2021・請求項9項
高温での加熱が不要な絶縁膜の製造方法、絶縁膜及び半導体装置
