東京都江東区に所在する、2001年設立・社会保険被保険者数8名の製造業（半導体・電子部品）企業。
- 所在地
- 〒136-0071 東京都 江東区 亀戸１丁目８番７号
- 法人番号
- 8010001074233
- 所在ビル
- 飯野ビル(16 社)
東京都江東区に所在する、2001年設立・社会保険被保険者数8名の製造業（半導体・電子部品）企業。
法人向け（製造業・エネルギー・環境）
業種・対象顧客は公開情報をもとに分類・推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
株式会社フィルテックは、半導体技術を核としたテストウエハソリューション事業、小型高効率熱交換器であるヒートビームシリンダー事業、およびコンサルティング事業を展開しています。テストウエハソリューション事業では、ベアSiウエハ、半導体膜・絶縁膜・メタル膜など多様な材料と製法による膜付きウエハ、プラズマ処理によるチャージアップダメージを評価するチャージアップモニタウエハ（300mm/200mm対応）、そして多種多様なパターンウエハを提供しています。パターンウエハには、カスタム設計パターンウエハ、CMP評価ウエハ、実装評価ウエハ、MEMS加工ウエハ、トレンチパターンウエハ、ホールパターンウエハ、Poly Siパターン付きウエハ、SADP 25nm L&Sパターンウエハ、特殊基板加工ウエハなどが含まれ、お客様の評価目的に合わせたGDSデータ作成からマスク製作、フォトリソ工程まで一貫したサービスを提供し、小口径から大口径ウエハ、Si基板以外の材料にも対応しています。小型高効率熱交換器であるヒートビームシリンダー事業では、高効率かつ瞬間的にガスを加熱することが可能な「ヒートビームシリンダー™」を提供しており、最大950℃までのガス過熱を実現します。この技術は、半導体工場の排気配管における副生成物堆積防止、過熱スチームシステムによる種々の有機物処理、バイオメタンからの白金不使用水素生成装置など、幅広い応用例を持ち、CVD装置や水素発生装置にも組み込まれています。コンサルティング事業では、再生可能エネルギー導入支援や結晶成長高温CVD装置に関する専門的なコンサルティング、および開発受託サービスを提供しています。同社の製品・サービスは、日本を代表する半導体製造会社で長年経験を積んだ技術者集団によって支えられており、半導体製造における先端開発や製造品質の維持管理に不可欠な役割を担っています。お客様の要望に対し、設計・開発レベルからワンストップで対応する体制を強みとし、長期にわたり世界的に信頼されています。これらの事業を通じて、同社は人に宿る知的財産から製品を生み出し、成長する市場の創造に貢献しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
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収録データなし: 決算・組織再編・公共調達・ニュース・ネガティブ情報・所属団体
社会保険被保険者数
8人 · 2026年10月
32期分（2024/03〜2026/10）
被保険者数 前年同月比
0人 · 2026年10月
前年同月 8人（2025年10月）→ 8人（0人）
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社会保険被保険者数
8人 · 2026年10月
32期分（2024/03〜2026/10）
被保険者数 前年同月比
0人 · 2026年10月
前年同月 8人（2025年10月）→ 8人（0人）
所在地を問わず同業種で選定
株式会社フィルテックは特許9件・商標5件を保有しています。商標は洗浄剤・化粧品（第3類）、特許は熱処理・装置などの分野が中心です。
特許
9件
審査中・消滅含む 57件
商標
5件
意匠
0件
審査中・消滅含む 3件
登録・現存
9件
審査中
0件
満了
0件
消滅
3件
拒絶・取下げ
45件
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
データ基準日: 2026年10月22日確認分
産業分野: ・機械工学（現存6）・化学（現存5）・電気工学（現存3）
Ｐｈｉｌｔｅｃｈ
洗浄剤・化粧品・照明・加熱・衛生装置 · 登録2020
フィルテック
洗浄剤・化粧品・照明・加熱・衛生装置 · 登録2020
金属酸化物膜形成方法登録2020・請求項17項
緻密な金属酸化物膜を形成する技術を提供することである。
膜形成方法登録2019・請求項10項
室温で化合物の膜を高速で被覆性よく成膜する方法
固体気化装置登録2018・請求項5項
水素やシランのような危険なガスの貯蔵や輸送がコストや実用面から無理なときがある。固体原料からユースポイントで使用したいガスを作り出したいというニーズがある。それを簡単な構造の装置で安定に再現性よく低コストで実現したい。
ガス生成装置およびガス生成方法登録2018・請求項8項
白金触媒を使わずに炭化水素と水を反応させて、一酸化炭素濃度が０．１％以下の水素を生成すること。
