神奈川県横浜市港北区に所在する、社会保険被保険者数16名の製造業（半導体・電子部品）企業。
- 所在地
- 〒222-0033 神奈川県 横浜市港北区 新横浜２丁目６番２３号
- 法人番号
- 5020001092344
- 所在ビル
- 金子第2ビル(20 社)
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神奈川県横浜市港北区に所在する、社会保険被保険者数16名の製造業（半導体・電子部品）企業。
法人向け（製造業）
2026年3月時点
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
東レエンジニアリング先端半導体ＭＩテクノロジー株式会社（TASMIT, Inc.）は、半導体検査および計測分野において革新的なナノテクノロジーを駆使し、新たな世界を創造することを目指す企業です。同社の主要事業は、半導体ウェハー向けの高度な検査・検証システムの開発、製造、販売に特化しています。具体的には、「電子線半導体ウェハーパターン検証システム」と「光学式半導体ウェハー検査システム」の二つの柱を軸に事業を展開しています。 電子線半導体ウェハーパターン検証システムは、最先端の半導体デバイス製造において発生する系統的な問題を迅速に解決するために、「Die to Databaseアルゴリズム」を用いて設計データとSEM（走査型電子顕微鏡）画像を比較することで、高精度なパターン検証を実現します。これにより、微細化が進む半導体回路の欠陥検出と解析において、業界最高水準のスループットと精度を提供し、製造プロセスの最適化に貢献しています。 一方、光学式半導体ウェハー検査システムは、半導体製造プロセスにおける様々な段階での欠陥検査に対応する幅広いラインナップを提供しています。これらのシステムは、高い信頼性、容易な操作性、そして最小限のランニングコストで生産ラインにおいて優れた評価を得ており、半導体ウェハーの表面や内部の微細な欠陥を効率的かつ高精度に検出します。 同社は、独自の技術力と長年の経験に基づき、半導体製造の最前線で求められる高精度な検査・計測ニーズに応えるソリューションを提供しています。対象顧客は、最先端の半導体デバイスを製造するメーカーであり、同社の製品は、次世代半導体パッケージングの効率的な製造を支える重要な役割を担っています。TASMITは、世界をリードするオリジナル技術で「世界No.1」の製品を創出するという企業理念のもと、半導体産業の発展に不可欠な検査・計測技術の革新を推進し続けています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
11億円
総資産
97億円
社会保険被保険者数
16人 · 2026年9月
34期分（2023/12〜2026/09）
ROE単体
20.93% · 2026年3月
11期分（2016/06〜2026/03）
ROA単体
11.65% · 2026年3月
11期分（2016/06〜2026/03）
自己資本比率単体
55.66% · 2026年3月
11期分（2016/06〜2026/03）
このデータをAIで活用
Claude / ChatGPT / Cursor などの MCP 対応クライアントから、東レエンジニアリング先端半導体ＭＩテクノロジー株式会社の決算・登記履歴・役員・関係企業・知財・公共調達などの構造化データを直接取得できます。無料 20 クレジット/月で利用可能、9 種類のツールを提供。
接続方法を見る同地域・同業種で選定
同業種の企業を読み込み中
純利益
11億円
総資産
97億円
所在地を問わず同業種で選定
ザインエレクトロニクス株式会社上場
株式会社フェローテック上場
レーザーテック株式会社上場
日本電子材料株式会社上場
トレックス・セミコンダクター株式会社上場
アプライドマテリアルズジャパン株式会社
マイポックス株式会社上場
株式会社ニックス上場
東レエンジニアリング先端半導体ＭＩテクノロジー株式会社は特許25件・商標4件を保有しています。商標は電子機器・ソフトウェア（第9類）、特許は計測などの分野が中心です。
特許
25件
審査中・消滅含む 129件
商標
4件
審査中・消滅含む 5件
登録・現存
25件
審査中
24件
うち審査請求なし 14件
満了
0件
消滅
12件
拒絶・取下げ
68件
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
産業分野: 電気工学（現存17）・計測機器（現存16）
ＩＮＳＰＥＣＴＲＡ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・IT・研究開発・デザイン · 登録2021
ＴＡＳＭＩＴ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・IT・研究開発・デザイン · 登録2020
ＮＧＲ
電子機器・ソフトウェア · 登録2005
ナノジオメトリ
電子機器・ソフトウェア・IT・研究開発・デザイン · 登録2003
検査装置及び検査方法登録2026・請求項5項
検査画像と基準画像との位置ずれに起因する疑似欠陥の検出を抑制する。
ウエーハ外観検査装置登録2026・請求項3項
ウエーハの外周部であっても、検出したい欠陥を確実に検出したり、疑似欠陥の検出を防ぐ。
観察装置、検出装置及び観察方法登録2026・請求項4項
微分干渉光学法を用いて基板の表面を観察するにあたって、基板の表面に形成されたクラックを視認しやすくする。
外観検査方法及び外観検査装置登録2026・請求項6項
検査画像と基準画像との比較による検査を正確に行うことが可能な外観検査方法
パターンマッチング方法登録2026・請求項8項
ワークピースの表面の不均一な帯電がパターンマッチングに与える影響を低減させる技術
データ基準日: 2026年9月3日確認分
