法人向け（製造業・IT・ソフトウェア・建設・土木・エネルギー・環境・医療・ヘルスケア）
2026年3月時点
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
クアーズテック合同会社は、1910年の創業以来110年以上にわたり、テクニカルセラミックスのグローバルリーダーとして、その最先端を切り開いてきた企業です。同社は400種類以上の独自のセラミック材料と世界最高水準のプロセス技術を駆使し、航空宇宙、自動車・輸送機器、化学処理、コンシューマー・家庭用耐久財、エレクトロニクス、エネルギー、機械・装置、食品・農業、医療、半導体といった多岐にわたる主要産業に対し、革新的なソリューションを提供しています。具体的なサービスとしては、アルミナ、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ジルコニアなどの多様なテクニカルセラミック材料の開発・製造に加え、セラミック射出成形、Cerbec®窒化ケイ素ベアリングエレメント、セラミック鋳造フィルター、GLASSUN®溶融シリカ質耐火物、NEOBONE®セラミックス人工骨補填材、半導体製造プロセス部品（成膜、拡散、エッチング、エピタキシャル成長、イオン注入、リソグラフィー、ウェーハ平坦化用部品）など、幅広い製品とアプリケーションを手掛けています。同社の強みは、部品設計から材料選定、最も効率的な製造プロセスに至るまで、顧客のビジネス目標に最適化された方法で密接に連携し、最も要求の厳しい課題に対応する能力にあります。研究開発、設計と製造可能性、多様な成形・焼成方法といった包括的な能力を背景に、世界中の製造・販売・研究施設に5,000人以上の従業員を擁し、グローバルな課題解決に貢献しています。同社は、長年にわたる技術革新と持続可能な企業文化を基盤に、顧客の最も困難な課題を解決し、未来を形作るための先進的な材料ソリューションを提供し続けています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
売上高
604億円
純利益
209億円
総資産
687億円
社会保険被保険者数
1,366人 · 2026年9月
30期分（2024/03〜2026/09）
ROE単体
91.21% · 2022年12月
8期分（2015/12〜2022/12）
ROA単体
30.48% · 2022年12月
8期分（2015/12〜2022/12）
自己資本比率単体
33.42% · 2022年12月
8期分（2015/12〜2022/12）
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売上高
604億円
純利益
209億円
総資産
687億円
クアーズテック合同会社は特許313件・商標17件・意匠14件を保有しています。商標は非金属建築材料（第19類）、特許は半導体などの分野が中心です。
特許
313件
審査中・消滅含む 1,508件
商標
17件
審査中・消滅含む 34件
意匠
14件
登録・現存
313件
審査中
20件
うち審査請求なし 12件
満了
9件
消滅
227件
拒絶・取下げ
939件
ＧＬＡＳＳＵＮ
照明・加熱・衛生装置 · 登録2020
ＳＡＰＰＨＡＬ
機械・エンジン・照明・加熱・衛生装置 · 登録2018
ＴＨＥＲＭＯＳＣＡＴＴ
照明・加熱・衛生装置・非金属建築材料 · 登録2014
ＮＥＯＢＯＮＥ
医薬品・サプリメント · 登録2012
ＣＥＲＡＨＩＶＥ
電子機器・ソフトウェア・医療用機械器具 ·
アルミナ焼結体及びその製造方法登録2026・請求項2項
誘電正接（ｔａｎδ）が小さなアルミナ焼結体及びその製造方法
ガス導入管及びガス導入管の製造方法登録2026・請求項5項
ガス導入管におけるデポ膜の局所的な生成を抑制すること。
データ基準日: 2026年9月10日確認分
所在地を問わず同業種で選定
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
産業分野: 化学（現存221）・電気工学（現存125）・機械工学（現存116）・計測機器（現存38）
ＡＲＩＳＴＯＲＵＭ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・医療用機械器具 · 登録2011
イットリウム酸化物材料及びイットリウム酸化物材料の製造方法登録2026・請求項2項
アーキングの防止効果と耐腐食性の双方に優れた、イットリウム酸化物材料及びそのイットリウム酸化物材料の製造方法を提供すること
半導体処理部材登録2026・請求項4項
半導体ウェハを保持するリング状の半導体処理部材において、半導体ウェハに対して熱酸化処理を施す際にスリップ転位の発生を抑え、ウェハ表面に成膜された酸化膜の膜厚のばらつきを小さくする半導体処理部材
サセプタ登録2026・請求項3項
サセプタのウエハを載置するポケット部に傾斜を設けるとともにウエハを位置ずれさせることなく保持し、半導体ウエハに傷等の損傷なく、均一なエピタキシャル膜を成膜することができるサセプタ
