法人向け（教育・研修・公共・行政・製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
ケニックス株式会社は、半導体製造装置や理化学機器、およびそれらの付属品のオーダーメイド製造・販売を主軸に、トータルサポートで技術貢献を行う企業です。同社は、薄膜作成コンポーネントとして、世界最小クラスのUHV対応マグネトロンスパッタカソード、ICF70マウント可能なEBガン、ルツボ最小2cc〜100cc対応Kセル、有機・金属材料対応のマルチ抵抗加熱ソース、コニカル型蒸着ソースなどを提供しています。また、スパッタリング装置では、圧力勾配式スパッタ装置「PGS model」をはじめ、2インチ、1インチ、4インチのRF/DC切替スパッタ装置をラインナップ。真空蒸着装置としては、3連式電子ビーム蒸着装置、3源抵抗加熱蒸着装置、斜入射型蒸着装置を手掛け、有機薄膜蒸着装置ではグローブボックス連結型や内収納型の装置を提供し、大気解放することなく連続成膜を可能にしています。 さらに、グラフェン結晶薄膜・表面分析装置として、MBE法と表面熱分解法を併用したグラフェン結晶薄膜成長機構やRHEED/LEED表面分析機構連結insituシステム、MBE成長・XPS/酸化処理・STM分析システムを展開。液体ソースプラズマCVD装置や、有機半導体・EL評価装置、高真空高温プローブ装置、環境制御評価試験装置といった半導体プローブ評価装置も提供しています。ウェハー表面改質・精密接合装置では、シリコン、金属、石英、ガラス等のウェハーレベルでの表面改質処理後精密接合（陽極接合、拡散・共晶接合、直接接合、熱圧着接合）に対応。接合・加工技術として、異種金属接合、ガラス一金属接合、石英/ガラス平面接合、石英/ガラス細線加工といった高度な技術を有しています。 その他、高制御応答性でガス放出の少ない超高真空酸化雰囲気対応基板加熱ヒーター、光学部品や超精密研磨・接合部品、石英製クリーンヒーターを含む石英精密加工製品、そして石英管、石英板、半導体向け石英加工品（ウェハーボート、洗浄槽、プロセスチューブ）などの石英材料・加工も手掛けています。加えて、中古理化学機器・装置の販売・改造、設備廃棄・移設作業も行い、顧客の多様なニーズに応えるトータルサポートを提供しています。主要な顧客は、大阪大学、京都大学、九州大学、東京大学、東北大学、東京工業大学、名古屋大学、防衛大学校、兵庫県立大学などの大学・官公庁、および多数の民間企業です。同社は、これらの幅広い製品とサービスを通じて、先端技術分野の研究開発から製造プロセスまで、多岐にわたる技術貢献を実現しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
7人 · 2026年7月
31期分（2023/12〜2026/07）
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ケニックス株式会社は特許4件を保有しています。特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
4件
登録 3
登録・現存
3件
審査中
1件
うち審査請求なし 1件
満了
0件
消滅
0件
拒絶・取下げ
0件
カーボンナノ粒子の製造方法登録2023・請求項8項
カーボンナノ粒子を容易に製造できる製造方法及び製造装置の提供。
スパッタ装置用カソードユニット登録2022・請求項6項
ターゲットと基板との圧力差を大きくすることが可能なスパッタ装置用カソードユニットを実現できるようにする。
データ基準日: 2026年7月29日確認分
産業分野: 化学（4）・電気工学（2）
蒸着セル、薄膜作製装置および薄膜作製方法登録2019・請求項19項
簡易な構成で、高い分子流密度を一定制御し、成膜速度を速めることができる蒸着セル、薄膜作製装置及び薄膜作製方法
