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法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社エピクエストは、半導体・電子デバイス産業向けに、エピタキシャル成長装置の販売、関連製品の提供、専門的なフィールドサービス、および技術ソリューション提案を幅広く手掛ける企業です。同社の主要事業は、MBE装置、MOCVD装置、HVPE装置、LPE装置、酸化装置、アニール装置といった、GaAs、InP、GaN、AlN、InN、ZnO、Ga2O3、SiCなど多様な半導体材料の成膜やプロセス処理に特化した装置の販売です。MBE装置では、マルチチャンバシステムやGaN用ハイスループット排気システムを搭載した装置、精密加工技術によるアーム搬送システムを提供し、研究開発から量産まで幅広いニーズに対応しています。MOCVD装置においては、優れたシミュレーション技術と長年の経験から最適設計された縦型石英リアクタを採用したGaAs系・InP系材料向けのSV/SVSシリーズや、窒化物半導体用の横型ステンレス製リアクタSHシリーズを展開し、均一性・再現性・急峻性に優れた結晶成長を実現しています。液体原料供給MOCVD装置や高温CVD装置、SiC用超高温プロセス炉なども提供しており、最大2200℃の超高温プロセスや急速昇温、カーボンフリー、超高真空といった先進的な機能を備え、6インチ基板まで対応可能です。面発光レーザー作製用酸化装置は、リアルタイムモニター付きのHiVOXシリーズを含め、8インチ基板に対応し、面内均一性や再現性に優れた酸化プロセスを可能にしています。KOHエッチング装置も8インチ対応のCE機を販売し、SiC/GaNの欠陥解析に貢献しています。その他取扱製品としては、Kセル、ラジカルセル、RHEED、各種真空機器、エピタキシャルウエハなど、半導体研究開発や製造に必要な幅広いコンポーネントを提供しています。通信販売では、ICFガスケット、IPDガスケット、モリブデン製品、Taワイヤー、アクセスドア、WRe5-26熱電対といった消耗品や部品も取り扱っており、顧客の多様な調達ニーズに応えています。フィールドサービスでは、装置のメンテナンス、改造、自動化、移設といった包括的なサポートを提供し、顧客の装置が常に最適な状態で稼働するよう支援しています。さらに、3次元熱流体解析ソフトを用いたガスフローシミュレーション受託解析サービスや、顧客の課題解決に向けたソリューション提案も行い、技術的な知見と経験を活かした付加価値の高いサービスを提供しています。同社は、半導体・電子デバイス分野の研究開発機関や製造企業を主要顧客とし、最先端の技術と高品質な製品、きめ細やかなサポートを通じて、日本の半導体産業の発展に貢献しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
従業員数（被保険者）
16人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
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日本電子材料株式会社上場
株式会社エピクエストは特許14件・商標1件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は半導体などの分野が中心です。
特許
14件
登録 10
商標
1件
登録 1
※登録商標の指定商品・役務の区分です。企業の事業分野そのものではありません。
ＥＱ∞ＥｐｉＱｕｅｓｔ
機械・エンジン・広告・小売・事業支援・建設・修理・工事 · 登録2015
エッチング装置およびエッチング方法登録2025・請求項12項
固体と液体との間で相転移するエッチャントを用いたエッチング装置および方法
酸化装置登録2017・請求項6項
熱酸化工程におけるウエハの反りやヒータ形状に依存するウエハ内での酸化のばらつきを防止した酸化装置の提供
ＮＨ３雰囲気高温加熱装置登録2017・請求項6項
窒化物半導体の成長に必要なアンモニアガスを用いても、安定した加熱が可能な誘導加熱装置
Ｋセル用るつぼ、Ｋセル、およびＭＢＥ装置登録2014・請求項8項
不純物が混入することなく、高強度のシリコンの分子線を安定して供給でき、かつ長寿命のＫセル用るつぼ、Ｋセル、およびＭＢＥ装置の提供。
局所加圧分子線エピタキシー装置と分子線エピタキシー装置の運転方法登録2012・請求項10項
ＩｎＮ結晶を分子線エピタキシャル成長法で成長させようとする場合、基板温度が低いと結晶品質が悪く基板温度が高いと窒素が解離してしまう。窒素解離を抑制して基板温度をより高くして成長させるようにする。
