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明電ナノプロセス・イノベーション株式会社は、明電舎が培った高純度オゾン生成技術を基盤に、ピュアオゾンジェネレータおよび成膜装置の開発・設計・製造・販売を主軸に置く企業である。同社のピュアオゾンジェネレータは、オゾンを冷却・液化して不純物を排気し、濃度80％以上の高純度オゾンガスを連続供給する装置で、ALDやMBEなど真空プロセスの酸化源として半導体製造、光学、太陽電池、電子ビーム描画装置のIn-situ洗浄用途に用いられている。 OER装置では、ピュアオゾンとエチレンガスを混合してOHラジカルを発生させ、常温成膜、表面改質、親水化接合前処理、レジストアッシング、洗浄・クリーニングなどの工程に対応する。基板直上でのガス混合やシャワーヘッド構造により、プラズマを使わない化学反応型の処理を行い、基材への物理的なダメージやダスト発生を抑える点に特徴がある。無アルカリガラスの超親水化、ハイブリッド接合、トレンチ構造のめっき前処理など、半導体パッケージングや材料改質に関わる用途が中心である。 同社は装置販売、用途別カスタマイズ、共同研究・評価支援を組み合わせたビジネスモデルを採る。国内外への導入実績は約80台で、主な取引先には明電舎、産業技術総合研究所、東京大学、東京工業大学、理化学研究所、California Institute of Technology、CNRS、装置メーカー、材料メーカーが含まれる。世界初の常温ALD成膜装置、バッチ式常温ALD成膜技術、低温ダメージレス無接着剤接合技術などの開発実績があり、研究開発機関から量産装置メーカーまでを対象に、ナノプロセス領域の酸化源・表面処理装置を展開する。
2026年6月23日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
-1.8億円
総資産
6.4億円
従業員数（被保険者）
1人 · 2026年6月
31期分（2023/12〜2026/06）
ROE単体
-31.53% · 2026年3月
6期分（2021/03〜2026/03）
ROA単体
-27.52% · 2026年3月
6期分（2021/03〜2026/03）
自己資本比率単体
87.26% · 2026年3月
6期分（2021/03〜2026/03）
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日本電子材料株式会社上場
明電ナノプロセス・イノベーション株式会社は特許11件を保有しています。特許は半導体などの分野が中心です。
特許
11件
登録 8
表面改質方法登録2026・請求項11項
種々の改質対象物において所望の改質効果を得られ易くする改質技術
表面処理装置，基体接合装置，表面処理方法，基体接合方法登録2025・請求項12項
基体の表面にダスト等が付着しないように抑制、および当該基体の表面に水分が残存しないように抑制し、当該基体の表面を所望通り親水化し易くすることに貢献可能な技術
原子層堆積装置および原子層堆積方法登録2024・請求項16項
ＡＬＤにおいて被成膜面に対する原料ガスの吸着量の向上や当該被成膜面に形成する酸化膜の膜厚均一度の向上に貢献する技術
ガス噴出構造、表面処理方法及び表面処理装置登録2024・請求項8項
オゾンガスと不飽和炭化水素ガスの流量比の制御で照射ラジカルの分布を精密に制御できる表面処理構造、表面処理装置及び表面処理方法
オゾンガス供給システム登録2024・請求項11項
最小限の装置構成でオゾンガスをオゾン濃度可変にオゾン利用系に供給できるオゾンガス供給システム
