山形県米沢市に所在する、2019年設立・社会保険被保険者数4名の製造業（半導体・電子部品）企業。
- 所在地
- 〒992-0038 山形県 米沢市 城南４丁目３番１６号
- 法人番号
- 2390001015634
山形県米沢市に所在する、2019年設立・社会保険被保険者数4名の製造業（半導体・電子部品）企業。
法人向け（製造業・教育・研修）
業種・対象顧客は公開情報をもとに分類・推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
株式会社Cool ALDは、山形大学廣瀬研究室のナノ薄膜製造研究を基盤として設立された大学発ベンチャーであり、室温原子層堆積法を専門とする研究・開発・製造支援企業です。同社は、従来の原子層堆積法が250℃から300℃程度の基板加熱を必要としたのに対し、プラズマで発生させた酸化ガスを利用することで、室温（25℃）での成膜を可能にする画期的な技術を実用化しています。この低温成膜技術は、熱に弱い精密部品、プラスチック、樹脂など、これまでALDの適用が困難だった材料へのセラミックス（金属酸化物）薄膜の付与を可能にし、防食、ガスバリア、機能性表面付与といった多様な応用を期待させます。同社の強みは、製膜対象へのダメージが少ないこと、1m級の大型反応容器でのバッチ処理により、数百枚のウェハや数千個の電子部品を一度に処理できる量産性、そしてガス処理による全表面均一コーティング能力にあります。また、SiO2、TiO2、Al2O3、ZrO2、HfO2、Nb2O5、ZnO、SnO2など、ほぼ全ての金属酸化物膜に対応し、多層化も可能です。事業内容としては、顧客の用途に応じた室温原子層堆積装置の開発、製造、販売、大学研究機関向けの小規模装置や制御ソフトウェア、排ガス除害フィルターの提供、特性評価の受託業務、原子層堆積コーティングサービス、および関連するメンテナンス・コンサルティング業務を展開しています。同社は、この革新的な室温コート技術を通じて、ガスバリア素材、電子部品、化学材料、医療部品、精密機器の高機能・高性能化に貢献し、素材革新をもたらすことを目指しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
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収録データなし: 決算・登記変更・組織再編・公共調達・ニュース・ネガティブ情報・所属団体
社会保険被保険者数
4人 · 2026年10月
35期分（2023/12〜2026/10）
被保険者数 前年同月比
0人 · 2026年10月
前年同月 4人（2025年10月）→ 4人（0人）
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株式会社Ｃｏｏｌ ＡＬＤは特許1件を保有しています。特許はハンドリングなどの分野が中心です。
特許
1件
登録・現存
1件
審査中
0件
満了
0件
消滅
0件
拒絶・取下げ
0件
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
データ基準日: 2026年10月10日確認分
社会保険被保険者数
4人 · 2026年10月
35期分（2023/12〜2026/10）
被保険者数 前年同月比
0人 · 2026年10月
前年同月 4人（2025年10月）→ 4人（0人）
所在地を問わず同業種で選定
