法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
JPX (日本取引所グループ) 月次データおよび EDINET 提出者情報より。
株式会社フジミインコーポレーテッドは、1950年の創業以来、精密人造研磨材メーカーのパイオニアとして独自の技術を培ってきました。同社は「ろ過・分級・精製」「パウダー」「ケミカル」の3つのコア技術を基盤に、高度産業社会の発展を「縁の下の力持ち」として支えています。主要事業は、シリコンウェハー、半導体デバイス、ハードディスク、研磨ソリューション、機能材料、溶射材の6つの分野にわたります。 シリコンウェハー事業では、単結晶シリコンインゴットのスライス、ラップ加工、研磨工程に不可欠な製品を提供し、半導体デバイスの高集積化やウェハーの大口径化に対応した高精度な表面加工技術を追求しています。半導体デバイス事業では、半導体製造におけるCMP（化学的機械的平坦化）工程で使用されるスラリーなどの研磨材を幅広く提供し、非金属膜やCu、Wなどの金属膜研磨において豊富な実績と高い評価を得ています。ハードディスク事業では、コンピュータ用ハードディスクドライブの磁気ディスク製造に用いられる研磨材を提供し、大容量化のニーズに応える表面品質改善に貢献しています。 研磨ソリューション事業は、電子部品、LED・ディスプレイ、パワーエレクトロニクス用部品、自動車、光学レンズ、プラスチックレンズなど、多岐にわたる素材や用途に対応する研磨・研削材を開発・提供しています。切断、切削、粗研磨、仕上研磨といった全ての工程に関わり、一般金属から超硬合金、ガラス、水晶、サファイア、セラミックスまで、あらゆる加工対象の鏡面仕上げを可能にする製品群を持つのが強みです。 機能材料事業では、炭化ケイ素、リン酸チタン、超硬合金粉末、丸棒状酸化亜鉛、アルミナといった機能性パウダーを取り扱い、粉末の形状操作や複合化により新たな機能付与を提案しています。溶射材事業では、研磨材とは異なり、皮膜を形成するためのパウダー製品を開発・提供。耐摩耗性、耐熱性、耐腐食性が求められる半導体・液晶パネル製造装置、鉄鋼圧延ロール、発電用ボイラーチューブ、航空機用部品など、多種多様な業界でセラミックや金属、複合材を高温・高速で吹き付け、部品の寿命延長と環境負荷低減に貢献しています。特にサーメット・セラミック溶射に強みを持ち、航空宇宙防衛産業の品質マネジメントシステム「JIS Q 9100」認証も取得しています。 同社は、最先端の技術開発競争に打ち勝つ高度な新技術の創出に注力し、品質、コスト、納期、サービスの全ての要求を満たす最適なソリューションを提供。インテル社やTSMC社など、世界的な半導体メーカーから多数の賞を受賞するなど、その技術力と信頼性は高く評価されています。グローバルな事業展開も積極的に進め、北米、欧州、アジアに販売・開発拠点を持ち、顧客ニーズに迅速に対応する体制を構築しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
株式会社フジミインコーポレーテッドは2025年11月5日に訂正有価証券報告書（第72期・第73期）を提出し、11月7日には第74期（2025年4月1日－2026年3月31日）の半期報告書を提出しました。2026年2月2日には2026年3月期第3四半期決算短信を公表し、2月6日には「ポリシングおよび洗浄方法、洗浄剤ならびに研磨洗浄用セット」に関する特許を出願しています。
2026年5月13日には、代表取締役の異動及び役員人事、取締役・監査役及び補欠監査役候補者の選任、定款の一部変更、配当政策の変更、当社株券等の大規模買付行為に関する対応方針（買収への対応方針）の更新、2026年3月期決算短信、剰余金の配当に関するお知らせを一括して公表しました。5月18日には「PLANERLITE」の商標を出願し、5月21日には当社取締役会の実効性に関する自己評価結果の概要を開示しました。6月19日には有価証券報告書と内部統制報告書を提出し、6月30日には第74期定時株主総会における議決権行使結果を公表、7月1日には臨時報告書を提出しています。
決算によると、売上高は2022年3月期の397億9,200万円から2026年3月期には495億200万円へと推移し、純利益は同期間で84億8,500万円から80億5,000万円へと推移しています。直近5期では売上高が約2.2倍に拡大しており、総資産も635億9,500万円から981億5,400万円へと増加しています。社会保険被保険者数は2025年5月の998名から2026年7月には1,088名へと90名（約9%）の緩やかな増加となっています。
代表取締役の異動や買収への対応方針の更新など、ガバナンス体制の整備を進めるとともに、研磨関連の特許出願や新商標の出願など、技術開発とブランド構築にも注力している時期にあたります。
この要約は 2026-08-03 に AI が公開情報をもとに生成しています。 対象イベント 29 件。 事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
売上高
694億円
純利益
91億円
総資産
1,213億円
従業員数（被保険者）
1,092人 · 2026年8月
32期分（2023/12〜2026/08）
ROE単体
12.39% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
ROA単体
8.2% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
自己資本比率単体
66.21% · 2026年3月
12期分（2016/03〜2026/03）
ROE
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10.69% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
ROA連結
7.47% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
自己資本比率連結
69.84% · 2026年3月
12期分（2016/03〜2026/03）
EPS
108円 · 2026年3月
12期分（2016/03〜2026/03）
BPS
876円 · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
PER
24倍 · 2026年3月
8期分（2019/03〜2026/03）
発行済株式総数
8,010万株 · 2026年3月
12期分（2016/03〜2026/03）
1株当たり配当金
75円 · 2026年3月
8期分（2019/03〜2026/03）
配当性向
69.11% · 2026年3月
8期分（2019/03〜2026/03）
株主総利回り
211.33% · 2026年3月
7期分（2020/03〜2026/03）
設備投資額
227億円 · 2026年3月
8期分（2019/03〜2026/03）
役員報酬総額
1.8億円 · 2026年3月
7期分（2020/03〜2026/03）
男性役員数
9人 · 2026年3月
8期分（2019/03〜2026/03）
女性役員数
2人 · 2026年3月
5期分（2022/03〜2026/03）
女性役員比率
18% · 2026年3月
5期分（2022/03〜2026/03）
従業員数
911人 · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
平均年齢
41歳 · 2026年3月
8期分（2019/03〜2026/03）
平均勤続年数
12年 · 2026年3月
8期分（2019/03〜2026/03）
平均年間給与
892万円 · 2026年3月
8期分（2019/03〜2026/03）
女性管理職比率
3.2% · 2026年3月
3期分（2024/03〜2026/03）
男女賃金格差（全体）
69.2% · 2026年3月
3期分（2024/03〜2026/03）
男女賃金格差（正規雇用）
81.3% · 2026年3月
3期分（2024/03〜2026/03）
男女賃金格差（非正規雇用）
65.9% · 2026年3月
3期分（2024/03〜2026/03）
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日本電子材料株式会社上場
採用根拠の trace 付き (Compalyze 独自)
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
売上高 百万円 | 69,404 FY2026 | +11.0% | +7.6% | |
売上総利益 百万円 | 31,211 FY2026 | +13.7% | +6.4% | |
営業利益 百万円 | 13,826 FY2026 | +17.4% | +3.5% | |
当期純利益 百万円 | 9,059 FY2026 | -3.9% | -0.3% |
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
EPS 円 | 122.1 FY2026 | -3.9% | -24.2% | |
BPS 円 | 1,130.6 FY2026 | +10.2% | -18.4% |
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
ROE % | 11.3 FY2026 | -10.6% | -7.4% | |
自己資本比率 % | 69.1 FY2026 | -17.4% | -4.5% |
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
総資産 百万円 | 121,302 FY2026 | +33.4% | +12.5% | |
総負債 百万円 | 36,587 FY2026 | +161.1% | +30.2% | |
| 指標 | 直近 | 前期比 | 5期 CAGR | 推移 (古 → 新) |
|---|---|---|---|---|
営業 CF 百万円 | 12,599 FY2026 | -3.0% | +7.9% | |
投資 CF 百万円 | -822 FY2023 | +25.1% | — | |
DPS 円 | 75.0 FY2026 | +2.3% | -20.2% |
純資産 百万円 |
| 84,715 FY2026 |
| +10.2% |
| +7.7% |
自己資本 百万円 | 74,073 FY2026 | +5.0% | +5.2% |
流動負債 百万円 | 18,142 FY2026 | +45.5% | +12.1% |
固定負債 百万円 | 18,445 FY2026 | +1097.7% | +96.7% |
財務 CF 百万円 |
| 12,178 FY2026 |
| +316.1% |
| — |
現預金 百万円 | 29,524 FY2026 | +24.1% | -3.8% |
出典: edinet / 取得 2026年6月10日
株式会社フジミインコーポレーテッドは特許576件・商標17件を保有しています。商標は洗浄剤・化粧品（第3類）、特許は基礎材料化学などの分野が中心です。
特許
576件
審査中・消滅含む 1,106件
商標
17件
審査中・消滅含む 20件
登録・現存
576件
審査中
125件
うち審査請求なし 68件
満了
1件
消滅
100件
拒絶・取下げ
304件
ＦＵＪＩｍＩ
工業・農業用化学品・塗料・着色料・洗浄剤・化粧品・卑金属製品 · 登録2025
Ｆ－ＴｉＰ
工業・農業用化学品・塗料・着色料 · 登録2022
ＭＩＲＡＦＬＥＸ
工業・農業用化学品・洗浄剤・化粧品 · 登録2021
ＣＬＥＡＬＩＴＥ
洗浄剤・化粧品 · 登録2016
ＭＩＲＡＦＬＥＸ
·
研磨用組成物登録2026・請求項12項
酸化ケイ素等のケイ素原子－酸素原子結合を有する研磨対象物の研磨速度に対する窒化ケイ素等の窒素原子－ケイ素原子結合を有する研磨対象物の研磨速度を高くすることができる研磨用組成物を提供することを課題とする。
研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、半導体基板の製造方法
データ基準日: 2026年8月6日確認分
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
産業分野: 化学（現存378）・電気工学（現存314）・機械工学（現存313）・計測機器（現存1）
Ｆ－Ｃｕｂｅ
工業・農業用化学品・洗浄剤・化粧品 · 登録2014
窒化シリコンに対するＳｉＯＣの研磨選択比を高めることが可能な研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、半導体基板の製造方法
研磨用組成物、研磨方法、半導体基板の製造方法、およびケイ素－窒素結合を有する研磨対象物の研磨速度の抑制剤登録2026・請求項13項
Ｌｏｗ－ｋ材料を高い研磨速度で研磨することができ、かつ窒化ケイ素の研磨速度に対するＬｏｗ－ｋ材料の研磨速度の比を高くすることができる手段
変性ポリビニルアルコール組成物を含む研磨用組成物の製造方法および変性ポリビニルアルコール組成物を含む研磨用組成物登録2026・請求項4項
ろ過性が良好であるとともに、研磨対象物の表面欠陥を低減できる研磨用組成物の製造方法
研磨用組成物の製造方法登録2026・請求項9項
カチオン性基を有するシランカップリング剤を用いてシリカを変性させることを含む研磨用組成物の製造方法において、カチオン性基を有するシランカップリング剤の添加後における粗大粒子の発生を抑制しうる手段
前年同期比・連結
2026年3月31日 期末の半期は前年同期比で売上高が 8.9%増、営業利益が 13.5%増、純利益が 6.9%増。
売上高
▲ 8.9%
334.96億円（前年同期 307.46億円）
営業利益
▲ 13.5%
64.69億円（前年同期 57.02億円）
純利益
▲ 6.9%
46.71億円（前年同期 43.7億円）
出典: EDINET 半期報告書（通期進捗ではなく前年同期との比較）
