東京都品川区に所在する、社会保険被保険者数680名の製造業(半導体・電子部品)企業。
- 所在地
- 〒141-0032 東京都 品川区 大崎2丁目1番1号
- 法人番号
- 3010701022818
東京都品川区に所在する、社会保険被保険者数680名の製造業(半導体・電子部品)企業。
法人向け(製造業)
2026年3月時点
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
住友重機械マテリアルソリューションズ株式会社は、半導体製造に不可欠なイオン注入装置とレーザシステムを専門とするソリューションカンパニーです。同社は、イオン注入装置、レーザアニール装置、レーザ加工装置の開発、製造、販売、およびサービスを一貫して手掛けています。特にイオン注入装置においては、高電流、中電流、高エネルギー、そしてこれらを統合したAll-in-One型の4機種を開発する国内唯一のメーカーであり、日本国内の全半導体デバイスメーカーへの納入実績に加え、台湾をはじめとするアジア諸国への輸出にも注力しています。製品ラインナップには、高精度かつ高品質で生産性の高い「SHX-Ⅲ(HC)」「NV-GSDⅢ-180」といった高電流イオン注入装置、広範囲なパラメータを精度良く制御する「MC3-Ⅱ(MC)」中電流イオン注入装置、多段RFリナック加速方式を採用し超高エネルギー領域での注入を可能にする「S-UHE」「SS-UHE Ⅱ」「HE3」高エネルギーイオン注入装置、さらに広範なエネルギー・ドーズ範囲をカバーし大幅な生産性向上を実現する「SAion」All-in-One型イオン注入装置があります。レーザシステムとしては、UV固体レーザアニーリング装置「SWA20/22US(H)」、Green/IR固体レーザアニーリング装置「SWA90/93GD(A)」、ナノセカンドレーザアニーリング装置「LT-3100」、マイクロセカンドレーザアニーリング装置「QA-3000」、IRファイバレーザによる溶接・切断が可能なIRレーザ加工機を提供しています。 同社の強みは、半導体プロセスの急速な技術革新に対応するスピーディーな技術開発力、卓越した品質、そして顧客への手厚いサポートです。お客様が製品プロセスを検討する段階から、装置の運用、保守、さらには中古装置の販売、改造、解体に至るまで、製品ライフサイクル全体にわたって深く寄り添い、課題解決を支援する伴走者としてのビジネスモデルを確立しています。2025年には住友重機械工業のレーザ装置事業と統合し、株式会社センスを吸収合併することで事業領域を拡大し、2026年に現在の社名に変更しました。同社は「広くとどける、深くよりそう」をモットーに、唯一無二の技術力で新たな価値を創造し、半導体製造装置とレーザ加工装置を通じて社会の豊かな生活に貢献することを目指しています。
2026年4月28日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
20億円
総資産
568億円
社会保険被保険者数
677人 · 2026年9月
34期分(2023/12〜2026/09)
ROE単体
4.1% · 2025年12月
11期分(2016/03〜2025/12)
ROA単体
3.44% · 2025年12月
11期分(2016/03〜2025/12)
自己資本比率単体
83.77% · 2025年12月
11期分(2016/03〜2025/12)
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接続方法を見る同地域・同業種で選定
同業種の企業を読み込み中
純利益
20億円
総資産
568億円
所在地を問わず同業種で選定
ザインエレクトロニクス株式会社上場
株式会社フェローテック上場
レーザーテック株式会社上場
日本電子材料株式会社上場
トレックス・セミコンダクター株式会社上場
アプライドマテリアルズジャパン株式会社
マイポックス株式会社上場
株式会社ニックス上場
住友重機械マテリアルソリューションズ株式会社は特許100件・商標13件を保有しています。商標は機械・エンジン(第7類)、特許は電気機械・装置・エネルギーなどの分野が中心です。
特許
100件
審査中・消滅含む 196件
商標
13件
実用新案
0件
審査中・消滅含む 2件
登録・現存
100件
審査中
12件
うち審査請求なし 3件
満了
0件
消滅
71件
拒絶・取下げ
15件
Scorpion-MC
機械・エンジン · 登録2025
Milai
機械・エンジン · 登録2024
ULTIMS
機械・エンジン · 登録2024
Quon
機械・エンジン · 登録2024
SAion
機械・エンジン ·
イオン注入方法登録2026・請求項15項
所望の注入プロファイルを実現しうるイオン注入技術
イオン注入装置、イオン注入方法登録2026・請求項21項
被処理物のビーム非照射範囲における滞在時間を短縮できるイオン注入装置等
データ基準日: 2026年9月3日確認分
※各区分の現存登録・審査中・消滅の件数です。企業の事業分野そのものではありません。
産業分野: 電気工学(現存99)・化学(現存14)・機械工学(現存6)
SS-UHE
機械・エンジン · 登録2023
イオン注入装置、イオン注入方法登録2025・請求項36項
被処理物のビーム非照射範囲における滞在時間を短縮できるイオン注入装置等
イオン注入方法、イオン注入装置および半導体デバイスの製造方法登録2025・請求項26項
イオン注入工程における生産性を向上させる。
イオン注入方法およびイオン注入装置登録2024・請求項22項
ビームエネルギーの調整を迅速化する。