- 法人番号
- 6021001019708
- 所在地
- 〒243-0812 神奈川県 厚木市 妻田北3丁目15番32号
- 設立
- 従業員
- 30名
- 決算月
- 2月
- 企業スコア
- 80.0 / 100.0
- 法人番号
- 6021001019708
- 所在地
- 〒243-0812 神奈川県 厚木市 妻田北3丁目15番32号
- 設立
- 従業員
- 30名
- 決算月
- 2月
- 企業スコア
- 80.0 / 100.0
代表取締役
渡部宏章
確認日: 2022年2月28日
株式会社ケミカルアートテクノロジーは、半導体製造装置の設計、製造、開発、およびプロセス評価を主要事業とする企業です。同社は、環境負荷低減のためのクリーンテクノロジーを追求し、社会貢献に寄与することを目指しています。主要な製品群は世界各国の半導体製造工場に採用されており、半導体業界全体の進歩に貢献しています。 同社の製品ラインナップは多岐にわたり、石英商品群として薬液高温循環システム用のインライン型ヒーター「ラインヒーターCLHシリーズ」や薬液加熱用昇温バス「ケミカルバスCBシリーズ」、リン酸の特性をプロセス化した「ラインヒーター・ケミカルバス応用製品」、純水加熱用の「ホットウオータータンク」を提供しています。乾燥装置としては、対向式ウェハー遠心乾燥機「スピンドライヤー」や、処理するウェハー枚数やカセット数を問わないオートチューニング機構を持つ「オートバランス・スピンドライヤー」を展開。特に、キヤノン株式会社との共同特許品である「アクア静止型洗浄・乾燥装置」は、トレンチやビアホール、コンタクトホールといった10nmからの極小孔内部を効率よく洗浄・乾燥できる独自の技術を強みとしています。 さらに、枚葉自動処理装置としてウェハーの表面・裏面をブラシで洗浄する「スクラブ洗浄装置」、バッチ式WET処理装置としてシリコン窒化膜を除去する「ナイトライドエッチング装置」、薬液エッチング・水洗・乾燥を自動で行う「全自動ウェットエッチング装置」、有機溶剤エッチングを行う「全自動有機溶剤エッチング装置」を提供しています。これらの装置には同社製のラインヒーターやスピンドライヤーが組み込まれており、設計から調達、製造、試運転までを一貫して手掛けることで、顧客の多様なニーズに的確に対応し、高い顧客満足度を追求しています。特にカスタムICを製造するFabなど、少量多品種生産を行う顧客に最適なソリューションを提供しており、独自の技術力と開発力で”Best One”の製品・サービスを提供し続けています。
純利益
-3,889万円
総資産
8.5億円
ROE_単体
-67.96% · 2022年2月
2期分(2017/02〜2022/02)
ROA_単体
-4.59% · 2022年2月
2期分(2017/02〜2022/02)
自己資本比率_単体
6.75% · 2022年2月
2期分(2017/02〜2022/02)
従業員数(被保険者)
30人 · 2026年5月
30期分(2023/12〜2026/05)
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