法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
株式会社ケミカルアートテクノロジーは、半導体製造装置の設計、製造、開発、およびプロセス評価を主要事業とする企業です。同社は、環境負荷低減のためのクリーンテクノロジーを追求し、社会貢献に寄与することを目指しています。主要な製品群は世界各国の半導体製造工場に採用されており、半導体業界全体の進歩に貢献しています。 同社の製品ラインナップは多岐にわたり、石英商品群として薬液高温循環システム用のインライン型ヒーター「ラインヒーターCLHシリーズ」や薬液加熱用昇温バス「ケミカルバスCBシリーズ」、リン酸の特性をプロセス化した「ラインヒーター・ケミカルバス応用製品」、純水加熱用の「ホットウオータータンク」を提供しています。乾燥装置としては、対向式ウェハー遠心乾燥機「スピンドライヤー」や、処理するウェハー枚数やカセット数を問わないオートチューニング機構を持つ「オートバランス・スピンドライヤー」を展開。特に、キヤノン株式会社との共同特許品である「アクア静止型洗浄・乾燥装置」は、トレンチやビアホール、コンタクトホールといった10nmからの極小孔内部を効率よく洗浄・乾燥できる独自の技術を強みとしています。 さらに、枚葉自動処理装置としてウェハーの表面・裏面をブラシで洗浄する「スクラブ洗浄装置」、バッチ式WET処理装置としてシリコン窒化膜を除去する「ナイトライドエッチング装置」、薬液エッチング・水洗・乾燥を自動で行う「全自動ウェットエッチング装置」、有機溶剤エッチングを行う「全自動有機溶剤エッチング装置」を提供しています。これらの装置には同社製のラインヒーターやスピンドライヤーが組み込まれており、設計から調達、製造、試運転までを一貫して手掛けることで、顧客の多様なニーズに的確に対応し、高い顧客満足度を追求しています。特にカスタムICを製造するFabなど、少量多品種生産を行う顧客に最適なソリューションを提供しており、独自の技術力と開発力で”Best One”の製品・サービスを提供し続けています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
-3,889万円
総資産
8.5億円
従業員数（被保険者）
31人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
ROE単体
-67.96% · 2022年2月
2期分（2017/02〜2022/02）
ROA単体
-4.59% · 2022年2月
2期分（2017/02〜2022/02）
自己資本比率単体
6.75% · 2022年2月
2期分（2017/02〜2022/02）
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株式会社フェローテック上場
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トレックス・セミコンダクター株式会社上場
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株式会社ケミカルアートテクノロジーは特許16件・商標1件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は半導体などの分野が中心です。
特許
16件
登録 7
商標
1件
登録 1
登録・現存
4件
審査中
7件
満了
0件
消滅
3件
拒絶・取下げ
2件
アクアクリーン
機械・エンジン · 登録2003
基板処理装置登録2022・請求項3項
断熱材の固定が容易で、処理装置個体間の断熱効果のばらつきが小さい基板処理装置
基板処理装置登録2013・請求項3項
処理液の濃度を直接検出できるため、処理液の温度の影響を殆ど受けずに独立した濃度制御が行え、基板の薬液処理を精度良く行うことができる基板処理装置
データ基準日: 2026年7月26日確認分
産業分野: 電気工学（13）・化学（7）・計測機器（4）
エッチング液再生システム登録2012・請求項2項
エッチング処理が行われる処理槽内のエッチング液中の溶存物質の含有量が精度良く一定にコントロールされるようにエッチング液を再生できるエッチング液再生システム
エッチング液再生装置登録2012・請求項6項
エッチング液から高い除去率でケイ素化合物を除去することができ、エッチング液を処分することなく再利用する。
処理方法及び処理システム登録2007・請求項3項
基板表面のトレンチ内に薬液流体や水洗い流体 を確実に入り込ませ、洗浄から乾燥までの一連の処理を 密閉チャンバー内で可能とした処理方法と処理システム
