法人向け（製造業・教育・研修）
株式会社クレステックは、電子線描画技術を専門とする企業であり、主に電子線描画装置の製造販売、受託加工サービス、および共同開発の三つの事業を展開している。同社は25年以上にわたり、ポイントビーム型の電子線描画装置を国内外の大学、研究機関、製造メーカーに多数納入してきた実績を持つ。主力製品には、高加速電圧130kVを採用し、レジスト内の電子線の前方散乱を抑えることで、最小線幅7nm、ビーム径1.6nm以下の微細加工を可能にする「CABL-UHシリーズ」がある。このシリーズは、微小放電がほとんど発生しない独自の鏡筒構造と1段加速設計により、長時間安定稼働と高解像度描画を実現する。 また、研究開発用途から通信用半導体レーザー（DFB-LD）の生産用途に最適な50kV加速電圧の「CABL-APシリーズ」も提供する。このモデルは、最小ビーム径2nm（研究開発用）または3nm（生産用）を実現し、フィールドサイズ変調描画技術によって0.0012nmの最小アドレスサイズでの描画を可能とする。受託加工サービスでは、長年のノウハウを活かし、研究開発用の単品加工から生産用の継続加工まで対応し、特にDFB-LD向けグレーティングパターンやHEMTデバイス、次世代LSI、量子効果デバイスなどのナノスケールパターン加工に強みを持つ。さらに、顧客の最先端デバイス開発を支援するため、EBリソグラフィによる超微細加工技術を用いた新型装置や新機能の共同開発も推進しており、面電子一括露光装置やビットパターンメディア用電子線マスタリング装置などの開発実績を挙げている。
2026年5月25日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
3,119万円
総資産
9.6億円
従業員数（被保険者）
22人 · 2026年6月
31期分（2023/12〜2026/06）
ROE単体
14.9% · 2021年9月
7期分（2015/09〜2021/09）
ROA単体
3.26% · 2021年9月
7期分（2015/09〜2021/09）
自己資本比率単体
21.86% · 2021年9月
7期分（2015/09〜2021/09）
このデータをAIで活用
Claude / ChatGPT / Cursor などの MCP 対応クライアントから、株式会社クレステックの決算・登記履歴・役員・関係企業・知財・公共調達などの構造化データを直接取得できます。無料 20 クレジット/月で利用可能、9 種類のツールを提供。
接続方法を見る多摩エレクトロニクス株式会社
多摩エレクトロニクス株式会社は、1979年の設立以来40年以上にわたり、半導体ASSYの受託加工を主軸に事業を展開してきました。同社は長年培ったダイシング加工技…
株式会社ダン科学
株式会社ダン科学は、1959年の創業以来、エレクトロニクス産業の進化を支えるクリーンテクノロジーを核に、半導体洗浄装置、FPD洗浄装置、精密部品洗浄装置、その他…
多摩エレネクスト株式会社
多摩エレネクスト株式会社は、多摩エレクトロニクスホールディングス株式会社のグループ企業であり、主に日本ルメンタム株式会社の請負業務を手掛けています。同社は、半導…
イーティーシステムエンジニアリング株式会社
イーティーシステムエンジニアリング株式会社は、半導体プロセスに特化した各種治具および特殊ワーク向け製造装置の開発から設計、製造、保守点検までを一貫して手掛ける専…
ＥＫＣアドバンスド・エレクトロニクス１ジャパン株式会社
ＥＫＣアドバンスド・エレクトロニクス１ジャパン株式会社は、Qnityブランドとして、AI、先進コンピューティング、次世代デバイス間の高度な接続性といった最先端技…
青梅エレクトロニクス株式会社
青梅エレクトロニクス株式会社は、電子部品の研究・開発・製造・販売を主要事業とする企業です。同社は1987年の創業以来、BUMP技術の向上に注力し、時代のニーズに…
株式会社Ｄ‐ｐｒｏｃｅｓｓ
株式会社D-processは、半導体や各種電子デバイスの試作・開発から量産までを一貫して支援する受託加工サービスを提供しています。主要事業はCMP（化学機械研磨…
エヌビディア合同会社
エヌビディア合同会社は、人工知能とアクセラレーテッドコンピューティングの分野で世界的にリードする企業である。同社は、AIファクトリーやデジタルツインの構築に向け…
株式会社Ｇａｉａｎｉｘｘ
株式会社Gaianixxは、東京大学発のテクノロジーベンチャーとして、半導体業界の革新を目指し、多能性®中間膜の研究開発、製造、販売を主要事業としています。同社…
ＴｏｐｏＬｏｇｉｃ株式会社
TopoLogic株式会社は、東京大学発のディープテックスタートアップ企業として、量子力学に基づく新素材「トポロジカル物質」の社会実装を目指しています。同社は、…
株式会社ＰＥＺＹ Ｃｏｍｐｕｔｉｎｇ
株式会社PEZY Computingは、独自に開発したメニーコアプロセッサ技術を基盤に、世界最先端のスーパーコンピュータ・プロセッサおよび関連システムの開発・販…
ヒロセＳＥＲ株式会社
株式会社エス・イー・アールは、電子部品・電子機器の国内販売及び輸出入、並びに電子機器の技術開発及び製造販売を主要事業とする企業です。同社は、半導体、電子部品、製…
ａｍｓ‐ＯＳＲＡＭジャパン株式会社
ams-OSRAMジャパン株式会社は、革新的な光とセンサソリューションを提供するグローバルリーダーであるams OSRAMの日本法人として、高度な技術と製品を日…
エコー技研株式会社
エコー技研株式会社は、半導体製造プロセスにおける洗浄技術と計測技術を専門とする企業です。同社は、微細化が進むシリコンウェハー製造の最終工程で使用される「ウェハー…
日本電子材料株式会社上場
株式会社クレステックは特許25件を保有しています。特許は電気機械・装置・エネルギーなどの分野が中心です。
特許
25件
登録 12
産業分野: 電気工学（22）・計測機器（14）・機械工学（2）・化学（1）
電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置、および電子ビーム照射方法登録2016・請求項16項
電子ビーム露光装置のスループットを向上させる小型の電子ビーム照射装置。
電子ビーム発生装置、電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置、および製造方法登録2016・請求項19項
電子ビーム露光装置のスループットを向上させる並列度を高めた電子ビーム発生装置。
描画方法及び描画装置、並びに情報記録媒体登録2013・請求項7項
物体の描画面上に短時間に精度よくパターンを描画する。
電子ビーム記録装置登録2012・請求項3項
電子ビームを高い位置精度で試料の所定の位置に照射して情報を記録することができる電子ビーム記録装置
真空チャンバ及び電子線描画装置登録2012・請求項6項
チャンバの内部空間で装置を保持するベースの変形量を抑制する。
