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法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
キヤノンアネルバ株式会社は、高度な真空・薄膜技術を核として、半導体や電子部品の製造に不可欠な装置、コンポーネント、および保守サービスを提供する企業です。同社の得意領域である超高真空技術は、ナノレベルの微細加工を実現し、自然界では地表400km以上の宇宙空間にしか存在しない極限環境を人工的に作り出すことで、最先端のデバイス製造を支えています。 主要事業である「製造装置」分野では、半導体デバイス、磁性デバイス、電子デバイスの製造に用いられる真空薄膜形成装置や真空プラズマプロセス装置（スパッタ、CVD、エッチング等）を開発・提供しています。特に、STT-MRAM量産向けのMTJ多層成膜用スパッタリング装置「NC7900」は「半導体オブザイヤー2014」を受賞し、原子拡散接合装置「BC7000」「BC7300」、そして2024年10月に発売された半導体・電子部品製造装置シリーズ「Adastra」はグッドデザイン賞金賞およびiFデザインアワード金賞を受賞するなど、その技術力とデザイン性が高く評価されています。 「コンポーネント」事業では、超高真空環境を構築・維持するためのポンプ、真空計（MEMS方式隔膜式真空計M-342シリーズなど）、質量分析計、リークディテクタ、真空部品、プロセスガスモニタ、マイクロフォーカスX線源などを幅広く提供し、製造装置の性能を支えています。 さらに、同社は製品の導入から運用までを一貫してサポートする「保守サービス」も展開しており、国内に複数のサービス拠点を持ち、海外現地法人とも連携してグローバルなサポート体制を構築しています。これにより、お客様であるデバイスメーカーは、同社の装置を安心して長期にわたり使用することが可能です。キヤノングループの一員として、同社は「お客様第一」の理念のもと、革新的な産業機器ソリューションを通じて、ものづくりの進化と持続可能な社会の実現に貢献しています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
売上高
417億円
純利益
61億円
総資産
342億円
従業員数（被保険者）
1,087人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
ROE単体
30.13% · 2025年12月
11期分（2015/12〜2025/12）
ROA単体
17.95% · 2025年12月
11期分（2015/12〜2025/12）
自己資本比率単体
59.56% · 2025年12月
11期分（2015/12〜2025/12）
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接続方法を見るアイベックステクノロジー株式会社
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日本電子材料株式会社上場
キヤノンアネルバ株式会社は特許1,983件・実用新案40件・商標21件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は表面技術・コーティングなどの分野が中心です。
特許
1,983件
登録 1,138
実用新案
40件
登録 24
商標
21件
登録 21
※登録商標の指定商品・役務の区分です。企業の事業分野そのものではありません。
アダストラ
機械・エンジン · 登録2025
Ａｄａｓｔｒａ
機械・エンジン · 登録2025
ＥＢＡＳ
機械・エンジン · 登録2006
ｅｃｏ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・建設・修理・工事 · 登録2006
ＩＡＲＩＭ
機械・エンジン · 登録2006
アネルバ
工業・農業用化学品 · 登録2003
構造体および水素吸蔵構造体登録2026・請求項5項
水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子の凝集を抑制する。
原子拡散接合法登録2026・請求項8項
接合面に形成した炭化物から成る接合膜によって原子拡散接合を行う。
産業分野: 電気工学（1,295）・化学（1,132）・計測機器（233）・機械工学（207）・その他分野（7）
成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法登録2025・請求項26項
生産性を低下させることなく基材と密着膜との密着性を向上できる成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法
検査装置および検査方法登録2025・請求項18項
検査対象面に存在する異物を高い感度で検出するために有利な技術
構造体および水素吸蔵構造体登録2024・請求項6項
水素吸蔵金属元素を含む複数の粒子の凝集を抑制する。
