東京都府中市に所在する、1982年設立・社会保険被保険者数92名の製造業（半導体・電子部品）企業。
- 所在地
- 〒183-0023 東京都 府中市 宮町１丁目４０番地
- 法人番号
- 9012401001526
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東京都府中市に所在する、1982年設立・社会保険被保険者数92名の製造業（半導体・電子部品）企業。
法人向け（製造業）
2026年3月時点
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合はお問い合わせください。
株式会社プレテックは、急速に進化する技術革新の中で、常に独自性のある先端技術開発企業というビジネスモデルを確立し、半導体ウェーハ、半導体デバイス、フォトマスク、液晶、プラスチックレンズ、磁気ディスクなどの精密部品製造に不可欠な洗浄装置の開発・設計・製造・販売を手掛けています。同社の製品群は、顧客の特定の用途や製造ラインに対応する特注の装置事業と、同業の洗浄装置メーカー向けの規格品である機器事業に大別されます。装置事業では、バッチ式カセットレス洗浄装置（シリコンウェーハ洗浄装置）、枚葉式シリコンウェーハ洗浄装置（スピンソニック洗浄装置）、マスク洗浄装置、ディスク洗浄装置、レンズ洗浄装置、半導体機器用部品洗浄装置などを提供し、これらの装置のメンテナンス業務および補修部品の販売も行っています。また、車載半導体（化合物半導体）向けエッチング装置や剥離装置も手掛けています。機器事業では、ファインソニック（メガソニック洗浄ユニット）、ファインジェット（メガソニック洗浄スプレー）、ファインスコール（メガソニック洗浄シャワー）、ウルトラソニック（超音波洗浄ユニット）、スイープソニック（超音波洗浄ユニット）といった高周波・超音波洗浄機器を開発・提供しています。 同社の強みは、最先端の高周波・超音波洗浄技術を基盤とした独創的な研究開発力と、顧客仕様に基づくカスタマイズ生産に特化している点です。設計から開発、組立て、検査、据付、保守に至るまで、製品のライフサイクルをトータルにサポートし、顧客との密接な連携を通じて問題点や技術トレンドをいち早く捉え、開発に反映させています。特に、半導体ウェーハのサブミクロンパーティクルを除去するカセットレス洗浄装置には、超音波技術、洗浄プロセス技術、設計・制御技術など世界最高水準の複合的な要素技術が組み込まれています。また、少ない薬液量での洗浄を可能にする「スピンソニッククリーナー」の開発など、水・薬品使用量の削減、消費電力の削減、工程数・タクトタイムの短縮、装置設置面積の縮小といった環境負荷低減と生産効率向上を両立させるソリューションを提供し、顧客の厳しい品質基準に応え続けています。主要な顧客は各分野のトップ企業であり、その高い要求に応えることで競争力を維持・発展させています。輸出先はアメリカ、イギリス、フランス、シンガポール、タイ、台湾、マレーシア、フィリピン、ベトナムなど多岐にわたります。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
純利益
1.8億円
総資産
35億円
社会保険被保険者数
92人 · 2026年9月
34期分（2023/12〜2026/09）
被保険者数 前年同月比
+3.4% · 2026年9月
前年同月 89人（2025年9月）→ 92人（+3人）
ROE単体
8.53% · 2018年9月
1期分（2018/09〜2018/09）
ROA単体
5.16% · 2018年9月
1期分（2018/09〜2018/09）
自己資本比率単体
60.41% · 2018年9月
1期分（2018/09〜2018/09）
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同地域・同業種で選定
同業種の企業を読み込み中
純利益
1.8億円
総資産
35億円
所在地を問わず同業種で選定
ザインエレクトロニクス株式会社上場
株式会社フェローテック上場
レーザーテック株式会社上場
日本電子材料株式会社上場
トレックス・セミコンダクター株式会社上場
アプライドマテリアルズジャパン株式会社
マイポックス株式会社上場
株式会社ニックス上場
株式会社プレテツクは特許13件・商標4件を保有しています。商標は機械・エンジン（第7類）、特許は半導体などの分野が中心です。
特許
13件
審査中・消滅含む 112件
商標
4件
実用新案
0件
審査中・消滅含む 1件
登録・現存
13件
審査中
0件
満了
0件
消滅
40件
拒絶・取下げ
60件
ＮａｎｏＰｌａｎｅｒ
機械・エンジン · 登録2021
枚葉式洗浄装置登録2024・請求項7項
基板をスピン洗浄及びスピン乾燥する枚葉式洗浄装置において、洗浄液の跳ね返りによるミストが基板に到達するのを抑制し、基板上にウォータマークの発生、及び異物や金属成分の付着を防止することができる枚葉式洗浄装置
基板エッチング装置登録2024・請求項6項
Ｗｅｔ処理装置で基板と化学反応によってエッチング処理する工程に用いることができ、基板表面において基板中心領域にある、部分的な凸領域を容易にエッチングすることができ、特には基板表面の高低差が均一になるように処理することができる基板エッチング装置
データ基準日: 2026年8月6日確認分
エッチング装置及びエッチング方法登録2022・請求項6項
簡便に膜厚均一化処理の精度を高めることができるエッチング装置
基板処理ノズル登録2021・請求項14項
Ｗｅｔ処理装置で基板と化学反応によってエッチング処理する工程において用いることができ、基板表面にある、部分的（局所的）な結晶構造単位での凸領域を容易にエッチングすることができ、基板表面の高低差をなくして均一に処理することができる基板処理ノズル
シリンジを用いたウェット処理装置登録2020・請求項5項
ハーフインチサイズのきわめて小さいウェハへ非常に少ない量の薬液を正確に供給するウェット処理装置
