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法人向け（製造業）
業種・対象顧客は公開情報をもとに AI が推定したものです。持株会社など グループ経営の会社では、主要な事業会社の業種を表示します。実態と 異なる場合は お問い合わせください。
ギガフォトン株式会社は、半導体製造用リソグラフィ装置およびその他の用途で使用されるエキシマレーザー、ならびに極端紫外線光源の開発、製造、販売、およびサービスを主要事業としています。同社は、モバイルフォンから自動車、家電製品に至るまで、あらゆる電子機器に不可欠な半導体チップの製造を支える精密な光源技術とソリューションを提供しており、特にフォトリソグラフィ工程において重要な役割を担っています。同社のエキシマレーザーは、半導体メーカーに供給される装置の中核をなし、GigaTwin™プラットフォームのような独自の技術を駆使して、高出力レーザー要件に対応しています。このプラットフォームは、インジェクションロッキング技術とツインチャンバー構成を採用し、高い性能と信頼性を実現しています。また、同社はKrFエキシマレーザー「G300K」を開発し、半導体アドバンストパッケージングにおける超微細アブレーション加工、特に直径10μm以下のマイクロビアホールやトレンチパターンの形成に貢献しており、2.5D/3DパッケージやAIチップセットの製造への採用が期待されています。さらに、同社は「Fabscape®」というオープンなソフトウェアプラットフォームを提供し、顧客が自社の製造装置を監視、管理、分析できるよう支援しています。品質面では、ISO 9001認証を取得し、「改善」を追求することで業界最高水準の品質と信頼性を実現。環境負荷の低減にも注力し、グリーンテクノロジーの開発や製品の耐久性向上を通じて持続可能性を追求しています。サービス＆サポート体制も充実しており、世界中に広がるネットワークを通じて、光源の稼働率最大化、予防保全、専門的なトレーニング、効率的な部品供給を提供し、顧客の技術的進歩を強力に支援しています。同社は、アジア市場で圧倒的な存在感を示しつつ、米国および欧州市場でも急速な成長を遂げ、世界の主要半導体デバイスメーカーから信頼を得ています。
2026年4月30日 時点。この概要は AI を利用して公開情報から抽出しています。事実と異なる箇所がある場合は お問い合わせください。
売上高
556億円
純利益
111億円
総資産
641億円
従業員数（被保険者）
869人 · 2026年7月
32期分（2023/12〜2026/07）
ROE単体
28.82% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
ROA単体
17.36% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
自己資本比率単体
60.24% · 2026年3月
11期分（2016/03〜2026/03）
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日本電子材料株式会社上場
ギガフォトン株式会社は特許978件・商標24件を保有しています。商標は電子機器・ソフトウェア（第9類）、特許は光学などの分野が中心です。
特許
978件
登録 606
商標
24件
登録 24
※登録商標の指定商品・役務の区分です。企業の事業分野そのものではありません。
ｉＴＧＭ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・建設・修理・工事・教育・娯楽・スポーツ・文化・IT・研究開発・デザイン · 登録2022
Ｔｈｅ Ｆｕｔｕｒｅ ｉｓ Ｔｏｄａｙ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・建設・修理・工事・教育・娯楽・スポーツ・文化・IT・研究開発・デザイン · 登録2021
ＧＩＧＡＰＨＯＴＯＮ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・建設・修理・工事・教育・娯楽・スポーツ・文化・IT・研究開発・デザイン · 登録2021
ＦＡＢＳＣＡＰＥ
電子機器・ソフトウェア・IT・研究開発・デザイン · 登録2018
ＧＩＧＡＮＥＸ
機械・エンジン・電子機器・ソフトウェア・建設・修理・工事・教育・娯楽・スポーツ・文化・IT・研究開発・デザイン · 登録2017
ＧＩＧＡＰＨＯＴＯＮ
·
軸受装置、および軸受装置を備えたレーザ装置登録2026・請求項16項
フッ素ガスに対する耐食性に優れ、また寸法精度や耐久性の点でも優れた軸受装置
紫外線レーザ装置、電子デバイスの製造方法、及びシステム登録2026・請求項20項
紫外線レーザ装置及び電子デバイスの製造方法に関する。
産業分野: 計測機器（569）・電気工学（298）・機械工学（52）・化学（26）・その他分野（2）
ターゲット供給システム、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法登録2026・請求項19項
ターゲット形成不良の発生を抑制するターゲット供給システム。
極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法登録2026・請求項21項
信頼性の低下が抑制され得るＥＵＶ光生成装置。
ＥＵＶ光生成システム、及び電子デバイスの製造方法登録2026・請求項16項
休止期間から照射期間に移行した直後であっても、安定したＥＵＶ光を生成する。
